Degradasi Fenol pada Limbah Cair Batik Menggunakan Reagen Fenton Dengan Sinar UV

Authors

  • Tien Setyaingtyas Universitas Jenderal Soedirman Purwokerto
  • Kapti Riyani Universitas Jenderal Soedirman Purwokerto
  • Dian Windy Dwiasi Universitas Jenderal Soedirman Purwokerto
  • Ening Budhi Rahayu Universitas Jenderal Soedirman Purwokerto

DOI:

https://doi.org/10.15408/jkv.v4i1.7054

Abstract

Senyawa fenolik merupakan salah satu kontaminan yang berbahaya dalam limbah cair karena sifatnya yang beracun bahkan pada konsentrasi rendah. Reagen fenton dapat digunakan untuk mendegradasi fenol  didasarkan pada pembentukan radikal hidroksil (•OH). Radikal hidroksil mampu menguraikan senyawa fenol melalui proses oksidasi. Reagen fenton merupakan campuran dari hidrogen peroksida (H2O2) dan ion Fe2+ yang dihasilkan dari senyawa FeSO4.  Penggunaan sinar  ultraviolet  pada sistem H2O2/Fe2+ untuk mempercepat dan memperbanyak terbentuknya radikal hidroksil.  Pembentukan radikal hidroksil dipengaruhi juga oleh kondisi pH larutan. Tujuan dari penelitian ini adalah mendegradasi fenol dalam limbah batik menggunakan reagen fenton dengan sinar UV. Parameter yang divariasi  adalah konsentrasi H2O2, berat FeSO4 dan pH.  Hasil penelitian menunjukkan bahwa sinar UV pada sistem fenton dapat meningkatkan degradasi fenol dalam limbah cair batik. Penurunan kadar fenol menggunakan fenton/UV sebesar  59,98% dengan penambahan H2O2 50 ppm dan FeSO4 0,5 g dengan waktu penyinaran UV selama 60 menit. Kondisi pH optimum yang diperoleh untuk sistem fenton/UV adalah pH 3 dengan penurunan kadar fenol sebesar 83,45%. Senyawa fenol dalam limbah cair batik dapat didegradasi menggunakan reagen fenton dengan bantuan sinar UV.


DOI:http://dx.doi.org/10.15408/jkv.v4i1.7054

Downloads

Download data is not yet available.

Downloads

Published

31-05-2018

Issue

Section

Jurnal Kimia VALENSI, Volume 4, No. 1, Mei 2018

How to Cite

Degradasi Fenol pada Limbah Cair Batik Menggunakan Reagen Fenton Dengan Sinar UV. (2018). Jurnal Kimia Valensi, 4(1), 26-33. https://doi.org/10.15408/jkv.v4i1.7054